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物理学院对原子层边结构研究取得重要进展-GeS等α相单层边重构及其优秀光电特性


发布时间:2021-09-17    来源:    点击量:



 

在纳米尺度,二维材料的边界显著影响性质与应用。边界处具有悬挂键和边界应力,往往会引起边重构。要研究二维材料的性质,准确理解不同条件下的边结构是先决条件。具有褶皱结构的α相单层(如磷烯、砷烯、GeSGeSe)同时具有高迁移率和高开关比,是理想的下一代微电子材料。但其边界的研究很少,边的真实结构及其对性质的影响亟待系统、深入的研究。

大连理工大学赵纪军教授、高峻峰教授和新加坡科技发展局张永伟教授指导的完美网页版,完美(中国)官方在读博士生张艳雪同学、赵艳艳同学利用粒子群算法CALYPSO高效结构搜索程序,经过系统的边界搜索,提出了管状边重构是褶皱α相单层锯齿形边的普适性边重构模式(见图1)。


 

1. (a,b) 分别为Ge边界和S边界的CALYPSO输入模型示意图。 (c,d)分别为预测的Ge边界和S边界对比原始锯齿形边界的能量变化(ΔE)图及能量最低的ZZ(Ge-Tube)边界和ZZ(S-R)边界的原子结构。

 

张艳雪同学介绍:“对比原始的锯齿形边界,管状边界的边界能降低了30%以上(图2)。并且重构势垒仅仅为0.4 eV,这意味着在室温下,原始边结构完全转变管状边结构只需要纳米的时间尺度,非常容易发生。可以推断常温下所有的zigzag边都会自发的转变为管状边”。同时,管状边结构具有很好的热稳定性和化学稳定性。


2.重构的α相单层纳米带对比原始锯齿形边界纳米带的能量变化图(虚线设为零)

 

更重要的是,在多种元素组成不同的α相纳米带研究中,管状边结构总是能导致type-Ⅱ能带排列,从而导致稳健的电荷空间分离(见图3)。赵艳艳同学介绍说“我们采用了最新的含时密度泛函(Hefei-TDDFT)方法进行了系统的计算,该方法模拟的结果指出光生空穴和电子分布位于GeS纳米带的两端,非常稳健的形成了电子、空穴的分离,有效的产生了光伏电荷。”


3. (a-e) 重构的α相单层纳米带的边界原子投影能带图及带边分解电荷密度图。(f) 电子和空穴在GeSNRZZ(Ge-Tube)ZZ(S-R)之间的分离复合过程示意图。

 

尤为值得注意的是,重构后GeS纳米带的管状边诱导的光生载流子分离只需要672 fs,但存在寿命却可高达5 ns,如此长的寿命达到了光催化反应的时间尺度,充分表明了空间分离的电荷可以得到有效的累积,这对光电器件和光催化的应用至关重要。

 

该研究以“Universal Zigzag Edge Reconstruction of an α-Phase Puckered Monolayer and Its Resulting Robust Spatial Charge Separation”为题发表在领域权威杂志Nano Letters上。大连理工大学三束教育部重点实验室和物理学院为第一单位。

 

参考文献:

1. Yanxue Zhang, Yanyan Zhao, Yizhen Bai, Junfeng Gao*, Jijun Zhao, and Yong-Wei Zhang*. Universal Zigzag Edge Reconstruction of an α-Phase Puckered Monolayer and Its Resulting Robust Spatial Charge Separation. Nano Letters (2021) 

 

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